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近日，晶合集成（688249）传来好消息，公司新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体器件及其制作的过程”，专利号为CN1.8，授权日期为2025年2月21日。这一突破不仅展现了晶合集成在半导体领域的强大研发实力，也为行业带来了新的技术亮点。
据天眼查APP多个方面数据显示，今年以来，晶合集成已新获得26项专利授权，尽管较去年同期减少了13.33%，但公司在研发方面的投入却在持续增加。2024年上半年，公司研发费用高达6.14亿元，同比增长22.27%。这一数据充足表现了晶合集成对技术创新的格外的重视，也为其未来的发展奠定了坚实的基础。
那么，晶合集成此次获得的发明专利具体有哪些创新点呢？根据专利摘要，这项发明提供了一种半导体器件及其制作的过程，通过在PMOS区域内形成凹槽的过程中，利用无定形碳层保护下方的第二硬掩膜层不被减薄，来保证伪栅极的高度一致，进而提高器件的电学性能。这一技术突破不仅提升了半导体器件的性能，也为行业带来了新的技术思路。
面对晶合集成的这一创新成果，我们不禁想到，科技的进步离不开强大的工具支持。在半导体设计领域，设计师们常常需要借助AI工具来提升效率。例如，使用【搜狐简单AI】的AI绘画功能，设计师能够迅速生成设计图，节省大量时间。此外，【搜狐简单AI】的一键智能抠图功能，也能帮助设计师快速清理图片背景，提升设计质量。
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晶合集成的这一发明专利授权，不仅是对公司研发能力的肯定，也为行业树立了创新的榜样。而【搜狐简单AI】作为一款助力创新的AI工具，也在用自己的方式推动科技的进步。如果你也对科学技术创新充满热情，不妨试试【搜狐简单AI】，或许它能为你的创作或工作带来意想不到的惊喜。
让我们共同期待，晶合集成在未来能带来更多令人振奋的技术突破，同时也希望更多人能够借助【搜狐简单AI】这样的工具，释放自己的创造力，为科技的进步贡献力量！
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